為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關(guān)的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現(xiàn)象只會(huì)繼續(xù)到一個(gè)臨界點(diǎn)。一旦達(dá)到這一點(diǎn)，電流密度將急速下降，電壓仍相應(yīng)增高，超過這一點(diǎn)，電壓和電流密度又穩(wěn)步增長(zhǎng)。電拋光只有在電流密度比臨界點(diǎn)高時(shí)才會(huì)發(fā)生，低于這一點(diǎn)則出現(xiàn)腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產(chǎn)生。
電地光對(duì)金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號(hào)及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們?nèi)コ?，這些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項(xiàng)較快的操作，通常在2~12分鐘內(nèi)完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會(huì)需要更長(zhǎng)的時(shí)間。
在不銹鋼、鋁及其合金、有色金屬以及黑色 金屬的精加工工業(yè)生產(chǎn)中，電拋光已成為不可 缺少的表面加工法之一。例如金屬制品和鍍層 表面的精修裝飾加工，使制品表面的光潔度達(dá) 到很高的等級(jí)，尤其對(duì)事先進(jìn)行過機(jī)械拋光的 零件可以達(dá)到鏡面般光澤，這對(duì)照明用具等反 光器材的生產(chǎn)是必不可少的。切削工具采用電拋光可消除其表面的變形層，增加刀具工作面 的光潔度，改善切削工具的工作條件，延長(zhǎng)使用 壽命，避免機(jī)械磨光和拋光后可能造成刀具表 面金相組織變形，硬度降低，甚至出現(xiàn)裂紋的弊 病。千分尺、游標(biāo)尺、柱狀量規(guī)等計(jì)量工具經(jīng)電 拋光處理后，可滿足計(jì)量工具所需要的極高光 潔度和準(zhǔn)確度的要求。在醫(yī)療器械工業(yè)中，電 拋光是不銹鋼縫合針、外科手術(shù)器的磨刃的理 想加工方法。對(duì)一些特制設(shè)備，用電拋光可制 得拉拔方法難以得到的直徑為幾微米的表面光 潔度高的釷、鈮、鈾絲，且經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間放置其金屬 光澤也不會(huì)變暗。電拋光在金相磨片的制備方面也得到廣泛應(yīng)用。生產(chǎn)實(shí)踐證明，零件原始 光潔度低時(shí)，電拋光后一般能提高光潔度1～2 級(jí);原始光潔度高時(shí)，可提高光潔度2～3級(jí)。 但電拋光技術(shù)尚存在一些不足，如迄今還未找 到可經(jīng)久使用、價(jià)格便宜并能拋光多種金屬的 通用電解液，現(xiàn)有的一些電解液成本高、使用周 期短，而且再生困難。因此，目前它的應(yīng)用范圍 受到一定的限制。
電拋光時(shí),電流在作為陽極的金屬制品表面流過,將會(huì)在表面上形成氧化膜、鹽膜或氧的吸附層等，使陽極的金屬溶解速率急劇下降，即處于鈍化狀態(tài)。但這種鈍化膜層又有可能在電解液中溶解，而使陽極重新活化。在某一電流密度下，金屬鈍化與金屬溶解在交替地進(jìn)行著。金屬表面上凸起部分鈍化的穩(wěn)定性低于凹陷部分，溶解速率較高。于是凹陷部分受到保護(hù)，而凸起部分優(yōu)先溶解，遂對(duì)金屬制品表面起到了整平與出光的作用。不過電拋光理論仍然是不夠成熟的。
電拋光用的陰極只起傳遞電流的作用。對(duì)陰極材料的主要要求是它們?cè)陔娊庖褐械幕瘜W(xué)穩(wěn)定性好，使用壽命長(zhǎng)和導(dǎo)電能力強(qiáng)。常用鉛、銅、不銹鋼等作陰極。
電拋光的電解液通常都是以磷酸為主要成分，同時(shí)也需要加入一定的氧化劑(如硫酸、鉻酸酐等)。在不通電的情況下，電解液應(yīng)當(dāng)對(duì)被拋光的金屬?zèng)]有明顯的腐蝕作用。并要求電解液對(duì)陽極溶解產(chǎn)物的溶解度大，且容易被清除。此外要求電解液的穩(wěn)定性好、價(jià)廉和毒性低。根據(jù)需要也可向電解液中添加少量有機(jī)物（如甘油、纖維素等）作為緩蝕劑。使用高氯酸－乙酸電解液進(jìn)行電拋光，可獲得高光潔度的表面。但這種電解液不太穩(wěn)定，且有爆炸危險(xiǎn)，使用不便。這種電解液主要用于制備金相磨片。
1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ?、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。
2、開關(guān)電源
開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡(jiǎn)便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。
3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對(duì)硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
4、電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響
直流電源波形對(duì)電鍍質(zhì)量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時(shí)，產(chǎn)生微裂紋鉻層，輸出紋波過大時(shí)，裂紋不細(xì)密且分布不均勻，達(dá)不到要求的裂紋數(shù)。
光亮鍍銅都有一個(gè)規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，同時(shí)降低高流密度區(qū)光亮度，光亮均勻好。在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。
光亮鍍鎳對(duì)整流輸出紋波系數(shù)要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實(shí)需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質(zhì)量，且能保證后續(xù)套鉻的質(zhì)量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種，其原因是大生產(chǎn)中易引入雜質(zhì)且不好處理(包括四價(jià)錫離子)、允許溫度范圍窄，目前光亮劑多數(shù)不理想，該工藝也要求采用低紋波系數(shù)直流電源，否則會(huì)出現(xiàn)與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問題：紋波系數(shù)大的直流電源及脈沖電源往往會(huì)加快溫升。紋波系數(shù)越大，其諧波分量也越大，能產(chǎn)生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升，采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。
