A.調(diào)整工作班次:將白天班改為夜間班，一般情況下夜間氣溫比白天低5～10℃。 

B.多槽輪流工作:經(jīng)一次或多次陽極化后，因焦耳效應(yīng)，溶液溫度上升，當(dāng)超過工藝允許的溫度時(shí)應(yīng)停止工作，讓其自然冷卻，下一槽的工件在另一只陽極化槽中進(jìn)行，這樣輪流操作既不影響生產(chǎn)，又可避開高溫溶液時(shí)對(duì)陽極化膜的影響。 

C.更換大容積槽子:增大陽極槽的容積，對(duì)于加工同樣表面積的工件，溶液的升溫度會(huì)相應(yīng)減緩。 

D.減少一次裝載量:槽內(nèi)裝載量減少后，陽極時(shí)產(chǎn)生的焦耳熱亦相應(yīng)減少，可降低溶液的升溫速度。 

E.繼息式工作:當(dāng)溶液溫度超過允許值時(shí)停止工作，待溫度降至工藝范圍時(shí)再繼續(xù)工作。 

F.水冷法:宜用井水，因井水具有冬暖夏涼的特點(diǎn)，能起到一定的控溫作用；而水塔上的儲(chǔ)備水是冬涼夏暖，不適宜作冷卻水用。 

2.5  染出顏色黑中顯紅
這種情況主要是由于未能控制好染色液的pH值，據(jù)了解，酸性元青是由酸性藍(lán)黑IOB和酸性橙Ⅱ組成，在一定的pH范圍內(nèi)這兩種組分進(jìn)入膜孔的比例符合陽極化膜染色純黑的要求，而當(dāng)pH值超過或低于這個(gè)佳范圍時(shí)，進(jìn)入膜孔中的兩組分比例失調(diào)，染上的顏色黑中顯青或黑中顯紅。試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，染色液的pH值與鋁陽極化膜上染出色調(diào)的關(guān)系見下。 
解決方法:定量測(cè)定pH值，工作中要防止酸、堿性物質(zhì)的混入，進(jìn)入染色槽的工件要徹底沖洗干凈。  
2.6  工件下端近邊緣處染不上色其原因?yàn)楣ぜ慈旧仙牟课粵]有生成氧化膜。經(jīng)了解，工件在陽極化之前一天進(jìn)行堿洗，且堿洗后的中和和水洗均不充分，并讓其自然晾干，這使得鋁件表面帶堿性的游離水緩慢地往下流，流至盡頭時(shí)集成水珠且久久不消失，水珠中的酸或堿性物質(zhì)且接與鋁件發(fā)生反應(yīng)<特別是水珠的周圍易吸納氧的部位，陽極氧化時(shí)未能被擊穿，阻止了陽極化過程中人工氧化膜的生成。 

4
電壓和陽極電流密度的影響
鋁制件通電氧化時(shí)，開始時(shí)很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜；隨之電阻增加電壓急劇升高，陽極電流密度逐漸減小。電壓繼續(xù)升高至一定值時(shí)，氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿，促使電流通過，氧化過程繼續(xù)進(jìn)行。
鋼筆-陽極氧化能夠帶來豐富的色彩

5
雜質(zhì)不利于陽極表面合金中含銅、硅等元素時(shí)，隨著氧化過程的進(jìn)行，同樣由于在電解液中的陽極溶解作用，使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚。當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時(shí)，氧化膜上會(huì)出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn)。
電解液中可能存在的雜質(zhì)是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子。當(dāng)Cl-,F-、N03-等陰離子雜質(zhì)含量高時(shí)，氧化膜的孔隙率大大增加，氧化膜表面變得粗糙和疏松。
這些雜質(zhì)在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L。當(dāng)超過這極限值，制品表面會(huì)發(fā)生穿孔而報(bào)廢。這些陰離子雜質(zhì)來自配制電解液和清洗工序中的水源，因此必須嚴(yán)格控制水質(zhì)。

6
電解液混濁度的負(fù)面影響
陽極氧化時(shí)，電解液的混濁度對(duì)氧化膜表面光亮度影響極大。
通常，硫酸氧化膜是透明的，它的主要成分是Al2O3。多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能，利用這一特點(diǎn)將鋁和鋁合金表面進(jìn)行各種色彩圖案花紋的裝飾。
若在電解液中含有各種不透明的固態(tài)混濁物，也被吸附填充到膜孔中去，會(huì)使氧化膜透明度下降，膜層的反光率受到阻擋，從而影響氧化膜的光亮度。
混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質(zhì)不凈，或由于陰陽極反應(yīng)劇烈與溶液的對(duì)流作用使雜質(zhì)不易沉淀于缸底，被分散懸浮在電解液中，電解液透明度較差，甚至不透明并帶有一定的色澤。因此，對(duì)那些外觀要求較高的鋁制品，在氧化過程中，必須對(duì)電解液進(jìn)行連續(xù)過濾。

為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關(guān)的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現(xiàn)象只會(huì)繼續(xù)到一個(gè)臨界點(diǎn)。一旦達(dá)到這一點(diǎn)，電流密度將急速下降，電壓仍相應(yīng)增高，超過這一點(diǎn)，電壓和電流密度又穩(wěn)步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點(diǎn)高時(shí)才會(huì)發(fā)生，低于這一點(diǎn)則出現(xiàn)腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產(chǎn)生。
電地光對(duì)金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號(hào)及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們?nèi)コ@些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項(xiàng)較快的操作，通常在2~12分鐘內(nèi)完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會(huì)需要更長的時(shí)間。

1、整流器的基本類型

  硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。

  2、開關(guān)電源

  開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。

  3、脈沖電源設(shè)備

  脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對(duì)硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

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