具體如下：工藝品，軸承，滑花，醫療儀器，電器等。特性：302不銹鋼球屬于奧氏體型鋼，與304比較接近，但是302的硬度更高一些，HRC≤28，具有良好的防銹及防腐性     301不銹鋼電解線：延展性好，用于成型產品。也可通過機械加工使其迅速硬化。焊接性好。抗磨性和疲勞強度優于304不銹鋼。202不銹鋼電解線：屬于鉻-鎳-錳 奧氏體不銹鋼，性能優于201不銹鋼    201不銹鋼電解線：屬于鉻-鎳-錳 奧氏體不銹鋼，磁性比較低     410不銹鋼電解線：屬于馬氏體（高強度鉻鋼），耐磨性好，抗腐蝕性較差。    420不銹鋼電解線：―刃具級‖馬氏體鋼，類似布氏高鉻鋼這種早的不銹鋼。也用于外科手術刀具，可以做的非常光亮。     430不銹鋼電解線：鐵素體不銹鋼，裝飾用，例如用于汽車飾品。良好的成型性，但耐溫性和抗腐蝕性要差。

1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術成熟，目前是整流器主流產品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流。為了比較脈動成份的多少，一般用紋波系數來表示，其數值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為：三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數的受導通角控制，輸出紋波系數大于普通硅整流電路。

2、開關電源
開關電源兼有硅整流器的波形平滑性優點及可控硅整流器的調壓方便的優點，電流效率高體積小，數千安培至上萬安培的大功率開關電源已進入生產實用階段。開關電源其頻率已達音頻，通過濾波實現低紋波輸出更為簡便易行。而且穩流、穩壓等功能更易實現。因此，開關電源是今后發展的方向。

3、脈沖電源設備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機等進行控制，因此，除實現脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動穩流穩壓。傳統硅整流器電流或電壓無法自動穩定，隨電網電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調節功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調節功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時，往往需要進行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運行模式的脈沖電源則只需提前設定，生產時可自動按順序進行自動調節。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時間可在0～255秒內調節設定。（3)雙向脈沖功能。正負脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨立調節，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

4、電鍍電源對電鍍工藝的影響
直流電源波形對電鍍質量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發花、發灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時，產生微裂紋鉻層，輸出紋波過大時，裂紋不細密且分布不均勻，達不到要求的裂紋數。
光亮鍍銅都有一個規律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴展低電流密度區光亮范圍，同時降低高流密度區光亮度，光亮均勻好。在實踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數大小有很大關系。
光亮鍍鎳對整流輸出紋波系數要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質量，且能保證后續套鉻的質量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種，其原因是大生產中易引入雜質且不好處理(包括四價錫離子)、允許溫度范圍窄，目前光亮劑多數不理想，該工藝也要求采用低紋波系數直流電源，否則會出現與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問題：紋波系數大的直流電源及脈沖電源往往會加快溫升。紋波系數越大，其諧波分量也越大，能產生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升，采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。

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電壓和陽極電流密度的影響
鋁制件通電氧化時，開始時很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜；隨之電阻增加電壓急劇升高，陽極電流密度逐漸減小。電壓繼續升高至一定值時，氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿，促使電流通過，氧化過程繼續進行。
鋼筆-陽極氧化能夠帶來豐富的色彩

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雜質不利于陽極表面合金中含銅、硅等元素時，隨著氧化過程的進行，同樣由于在電解液中的陽極溶解作用，使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚。當Cu2+含量達0.02g/L時，氧化膜上會出現暗色條紋或黑色斑點。
電解液中可能存在的雜質是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子。當Cl-,F-、N03-等陰離子雜質含量高時，氧化膜的孔隙率大大增加，氧化膜表面變得粗糙和疏松。
這些雜質在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L。當超過這極限值，制品表面會發生穿孔而報廢。這些陰離子雜質來自配制電解液和清洗工序中的水源，因此必須嚴格控制水質。

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電解液混濁度的負面影響
陽極氧化時，電解液的混濁度對氧化膜表面光亮度影響極大。
通常，硫酸氧化膜是透明的，它的主要成分是Al2O3。多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能，利用這一特點將鋁和鋁合金表面進行各種色彩圖案花紋的裝飾。
若在電解液中含有各種不透明的固態混濁物，也被吸附填充到膜孔中去，會使氧化膜透明度下降，膜層的反光率受到阻擋，從而影響氧化膜的光亮度。
混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質不凈，或由于陰陽極反應劇烈與溶液的對流作用使雜質不易沉淀于缸底，被分散懸浮在電解液中，電解液透明度較差，甚至不透明并帶有一定的色澤。因此，對那些外觀要求較高的鋁制品，在氧化過程中，必須對電解液進行連續過濾。

不銹鋼材料在進行加工的時候，需要進行不同的拋光處理，現在，很多的加工廠材料的不銹鋼板材加工的三種拋光的方法!不銹鋼型材都是經過特殊的加工之后而成的，所以才會耐用，光滑、防腐等等特點! 那么一般不銹鋼型材的三種拋光的方法主要是：光亮度高其缺陷是勞動強度大，污染嚴峻，并且雜亂零件無法不銹鋼板材加工，并且其光澤不能共同,機械拋光：加工后零件的整平性好。光澤堅持時刻不長，發悶、生銹。比擬合適加工簡略件，中、小產物。 化學拋光：加工設備出資少,雜亂件能拋, 速度快,效率高,防腐性好。其缺陷是光亮度差,有氣體溢出，需求通風設備，加溫艱難。合適加工小批量雜亂件及小零件光亮度需求不高的產物。 電化學拋光：鏡面光澤堅持長,工藝安穩,污染少,利息低,防腐性好。合適批量生產，首要應用于高級產物，進口產物，有公役產物，其加工工藝安穩，操作簡略。

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