1 整流器的基本原理及類型
1.1 傳統(tǒng)硅整流器
硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。
1.1.1 整流電路。工業(yè)生產(chǎn)中一般采用三相調(diào)壓器調(diào)壓，50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流，或多或少地含有交流成分。為了比較脈動(dòng)成份的多少，可用紋波系數(shù)來(lái)表示，其含義為交流成份在直流成分中占的百分比，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。
各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。其中后者工作時(shí)整流元件并聯(lián)導(dǎo)通，波形為平滑，整流效率較高，工作也較為可靠，時(shí)為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出，則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進(jìn)行濾波，是將脈動(dòng)直流轉(zhuǎn)變?yōu)檩^為平滑的直流的常用措施。但實(shí)際生產(chǎn)中，除試驗(yàn)用的小型整流器之外，工業(yè)生產(chǎn)基本上不進(jìn)行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波，對(duì)工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器，要達(dá)到低紋波輸出，其濾波電容要達(dá)0.1F以上。隨著頻率的提高，所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來(lái)調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下，輸出波形脈動(dòng)系數(shù)更大。

1.1.2.整流元件類型
整流元件即通常所說(shuō)的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經(jīng)過(guò)整流元件，因此，可以說(shuō)是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術(shù)已有了長(zhǎng)足的發(fā)展，且在電鍍上應(yīng)用也日趨增多，但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問(wèn)題。可控硅整流是采用控制整流元件導(dǎo)通時(shí)間與截止時(shí)間長(zhǎng)短來(lái)控制電流的。整流器滿負(fù)荷使用時(shí)波形好。但輸出電流較小時(shí)電流波形變差。電流越小，波形越差。而硅整流器輸出電流大小對(duì)波形幾乎無(wú)影響。

電拋光的持續(xù)時(shí)間對(duì)拋光質(zhì)量影響很大。開(kāi)始的一段時(shí)間內(nèi)，整平速度較大,隨后則逐漸減緩,甚至?xí)p害表面已出現(xiàn)的光潔度。隨著電流密度與溫度的提高，電拋光的時(shí)間應(yīng)當(dāng)縮短。為了獲得光潔度較高的表面，常可采用反復(fù)幾次拋光的辦法，而每次拋光的時(shí)間則不要太長(zhǎng)。
鋁及其合金的電拋光,早先多是采用磷酸-硫酸溶液，純度高，拋光的效果也就越好。作為鋼的電拋光的電解液雖有很多種，但真正用于生產(chǎn)的并不多。為了延長(zhǎng)電解液的使用期限和節(jié)約磷酸，在電拋光碳鋼時(shí)，可以先在磷酸-硫酸-鉻酸酐溶液中進(jìn)行初拋,然后再用磷酸-鉻酸酐電解液精拋。如果使用大電流間斷地沖擊，后可使表面光潔度達(dá)到。鎳、銅等的電拋光也可在類似的溶液中進(jìn)行。

電拋光為金屬表面精加工的一種方法。它是以懸掛在電解槽中的金屬制品為陽(yáng)極，于特定條件下電解，通過(guò)陽(yáng)極金屬的溶解，以消除制品表面的細(xì)微不平，使之具有鏡面般光澤外觀的過(guò)程。常用這種方法提高鋁及其合金、碳鋼、不銹鋼以及其他有色金屬表面的光潔度，來(lái)滿足某些部件工作條件中的需要（例如需要降低表面的摩擦系數(shù)、要求精密的公差配合等）和改善金屬制品的裝飾性外觀。
電拋光還可以除去金屬表面上的某些機(jī)械損傷。與機(jī)械拋光相比，電拋光加工后的表面無(wú)應(yīng)力產(chǎn)生。但是，過(guò)于粗糙的表面，不宜于直接進(jìn)行電拋光。

電解時(shí)，一般說(shuō)來(lái)，電解中的金屬陽(yáng)極溶解往往使金屬表面變得更加粗糙。盡管有時(shí)表面能變得比較平整，但也難以使其表面達(dá)到光澤。因此，電拋光需要在一定成分的電解液中和特定的工藝條件（電流密度、溫度、拋光時(shí)間、對(duì)電解液的攪拌條件等）下進(jìn)行。而且對(duì)不同金屬材料的電拋光，所要求的電解液成分與工藝條件也明顯不同。

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