1 整流器的基本原理及類型
1.1 傳統硅整流器
硅整流器使用歷史長，技術成熟，目前是整流器主流產品。
1.1.1 整流電路。工業生產中一般采用三相調壓器調壓，50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流，或多或少地含有交流成分。為了比較脈動成份的多少，可用紋波系數來表示，其含義為交流成份在直流成分中占的百分比，其數值越小，交流成份越少，越接近純直流。
各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為：三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。其中后者工作時整流元件并聯導通，波形為平滑，整流效率較高，工作也較為可靠，時為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出，則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進行濾波，是將脈動直流轉變為較為平滑的直流的常用措施。但實際生產中，除試驗用的小型整流器之外，工業生產基本上不進行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波，對工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器，要達到低紋波輸出，其濾波電容要達0.1F以上。隨著頻率的提高，所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數的受導通角控制，輸出紋波系數大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下，輸出波形脈動系數更大。

1.1.2.整流元件類型
整流元件即通常所說的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經過整流元件，因此，可以說是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術已有了長足的發展，且在電鍍上應用也日趨增多，但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問題。可控硅整流是采用控制整流元件導通時間與截止時間長短來控制電流的。整流器滿負荷使用時波形好。但輸出電流較小時電流波形變差。電流越小，波形越差。而硅整流器輸出電流大小對波形幾乎無影響。

電拋光的持續時間對拋光質量影響很大。開始的一段時間內，整平速度較大,隨后則逐漸減緩,甚至會損害表面已出現的光潔度。隨著電流密度與溫度的提高，電拋光的時間應當縮短。為了獲得光潔度較高的表面，常可采用反復幾次拋光的辦法，而每次拋光的時間則不要太長。
鋁及其合金的電拋光,早先多是采用磷酸-硫酸溶液，純度高，拋光的效果也就越好。作為鋼的電拋光的電解液雖有很多種，但真正用于生產的并不多。為了延長電解液的使用期限和節約磷酸，在電拋光碳鋼時，可以先在磷酸-硫酸-鉻酸酐溶液中進行初拋,然后再用磷酸-鉻酸酐電解液精拋。如果使用大電流間斷地沖擊，后可使表面光潔度達到。鎳、銅等的電拋光也可在類似的溶液中進行。

電拋光為金屬表面精加工的一種方法。它是以懸掛在電解槽中的金屬制品為陽極，于特定條件下電解，通過陽極金屬的溶解，以消除制品表面的細微不平，使之具有鏡面般光澤外觀的過程。常用這種方法提高鋁及其合金、碳鋼、不銹鋼以及其他有色金屬表面的光潔度，來滿足某些部件工作條件中的需要（例如需要降低表面的摩擦系數、要求精密的公差配合等）和改善金屬制品的裝飾性外觀。
電拋光還可以除去金屬表面上的某些機械損傷。與機械拋光相比，電拋光加工后的表面無應力產生。但是，過于粗糙的表面，不宜于直接進行電拋光。

電解時，一般說來，電解中的金屬陽極溶解往往使金屬表面變得更加粗糙。盡管有時表面能變得比較平整，但也難以使其表面達到光澤。因此，電拋光需要在一定成分的電解液中和特定的工藝條件（電流密度、溫度、拋光時間、對電解液的攪拌條件等）下進行。而且對不同金屬材料的電拋光，所要求的電解液成分與工藝條件也明顯不同。

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