為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關(guān)的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現(xiàn)象只會繼續(xù)到一個(gè)臨界點(diǎn)。一旦達(dá)到這一點(diǎn)，電流密度將急速下降，電壓仍相應(yīng)增高，超過這一點(diǎn)，電壓和電流密度又穩(wěn)步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點(diǎn)高時(shí)才會發(fā)生，低于這一點(diǎn)則出現(xiàn)腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產(chǎn)生。
電地光對金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們?nèi)コ@些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項(xiàng)較快的操作，通常在2~12分鐘內(nèi)完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會需要更長的時(shí)間。
1. 機(jī)械拋光
其長處是加工后零件的整平性好,光明度高。其缺陷是勞動(dòng)強(qiáng)度大,污染嚴(yán)峻,而且龐雜零件無法加工,而且其光澤不能一致,光澤維持時(shí)間不長，發(fā)悶、生銹。對比適宜加工簡略件,中、小產(chǎn)品。
機(jī)械拋光是靠切削、材料外表塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方式,一般運(yùn)用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主,特別零件如回轉(zhuǎn) 體外表,可運(yùn)用轉(zhuǎn)臺等輔佐工具,外表質(zhì)量要求高的可采取超精研拋的方式。超精研拋是采取特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工外表上,作高 速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以到達(dá) Ra0.008μm 的外表毛糙度,是各種拋光方式中高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方式。
2. 化學(xué)拋光
其長處是加工設(shè)備投資少,龐雜件能拋,速度快,效率高,防腐性好。其缺陷是光明度差,有氣體溢出,須要通風(fēng)設(shè)備,加溫艱難。適宜加工小批量龐雜件及小零件光明度要求不高的產(chǎn)品。
化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中外表宏觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方式的重要長處是不需龐雜設(shè)備,可以拋光外形龐雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的外表毛糙度一般為數(shù)10μm。
3. 電解拋光
其長處是鏡面光澤維持長,工藝穩(wěn)固,污染少,本錢低,防腐性好。其缺陷是防污染性高,加工設(shè)備一次性投資大,龐雜件要工裝、輔佐電極,大批生產(chǎn)還須要降溫設(shè)備。適宜批量生產(chǎn),重要應(yīng)用于高級產(chǎn)品,出口產(chǎn)品,有公差產(chǎn)品,其加工工藝穩(wěn)固,操作上也相對簡略。
電解拋光根底原理與化學(xué)拋光雷同,即靠選擇性的溶解材料外表渺小凸出部分,使外表光滑。與化學(xué)拋光相比,可以清除陰極反映的影響,效果較好。
1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。
2、開關(guān)電源
開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。
3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
二）、槽液的要求及控制：
1、槽液的成份及工藝條件：
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l
溫度： 50-55℃
陰極電流密度： 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽極面積 1:2.5-3
2、每周對槽液進(jìn)行兩次分析，控制槽液在工藝范圍內(nèi)。
3、根據(jù)化驗(yàn)結(jié)果補(bǔ)加材料，要求溶解好后加入鍍槽中，并做好記錄。
三）、設(shè)備的要求：
1、電源：對直流電源應(yīng)發(fā)揮其應(yīng)有效率，一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數(shù)不高于5%。
2、銅排、陰陽極桿應(yīng)根據(jù)電源的要求配制，以免在生產(chǎn)過程中發(fā)熱，損失電能，使電流不能有效輸出。
3、陽極：陽極面積應(yīng)是陰極的2.5-3倍，在實(shí)際生產(chǎn)中以掛滿為標(biāo)準(zhǔn)。
4、掛具：掛具應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品的不同而設(shè)計(jì)，總的原則是導(dǎo)電好。
5、槽體：溶液體積大一點(diǎn)，成份變化小，同時(shí)可適應(yīng)大工件操作。
四）、操作要求：
1、做好半成品毛坯的檢查，對不合格的毛坯能修復(fù)的做好修復(fù)工作，不能修復(fù)的另行處理。
2、經(jīng)檢驗(yàn)合格的毛坯按公差大小分類，轉(zhuǎn)入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進(jìn)行操作。
五）、電鍍注意事項(xiàng)：
1、毛坯前處理應(yīng)干凈。
2、毛坯在槽液中預(yù)熱應(yīng)充分，工件溫度應(yīng)接近槽液溫度。
3、電鍍過程中溫度變化應(yīng)控制在±2℃范圍內(nèi)。
4、鍍鉻零件進(jìn)入槽液內(nèi)離液面不應(yīng)低于50mm。
