二）、槽液的要求及控制：
1、槽液的成份及工藝條件：
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l 
溫度： 50-55℃
陰極電流密度： 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽(yáng)極面積 1:2.5-3
2、每周對(duì)槽液進(jìn)行兩次分析，控制槽液在工藝范圍內(nèi)。
3、根據(jù)化驗(yàn)結(jié)果補(bǔ)加材料，要求溶解好后加入鍍槽中，并做好記錄。

三）、設(shè)備的要求：
1、電源：對(duì)直流電源應(yīng)發(fā)揮其應(yīng)有效率，一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數(shù)不高于5%。
2、銅排、陰陽(yáng)極桿應(yīng)根據(jù)電源的要求配制，以免在生產(chǎn)過(guò)程中發(fā)熱，損失電能，使電流不能有效輸出。
3、陽(yáng)極：陽(yáng)極面積應(yīng)是陰極的2.5-3倍，在實(shí)際生產(chǎn)中以掛滿為標(biāo)準(zhǔn)。
4、掛具：掛具應(yīng)根據(jù)產(chǎn)品的不同而設(shè)計(jì)，總的原則是導(dǎo)電好。
5、槽體：溶液體積大一點(diǎn)，成份變化小，同時(shí)可適應(yīng)大工件操作。
 
四）、操作要求：
1、做好半成品毛坯的檢查，對(duì)不合格的毛坯能修復(fù)的做好修復(fù)工作，不能修復(fù)的另行處理。
2、經(jīng)檢驗(yàn)合格的毛坯按公差大小分類，轉(zhuǎn)入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進(jìn)行操作。

五）、電鍍注意事項(xiàng)：
1、毛坯前處理應(yīng)干凈。
2、毛坯在槽液中預(yù)熱應(yīng)充分，工件溫度應(yīng)接近槽液溫度。
3、電鍍過(guò)程中溫度變化應(yīng)控制在±2℃范圍內(nèi)。
4、鍍鉻零件進(jìn)入槽液內(nèi)離液面不應(yīng)低于50mm。

不銹鋼拋光后亮度等級(jí)    目測(cè)法，將拋光后零件 表面的光亮度分為5級(jí)：

1級(jí)：表面有白色氧化膜，無(wú)光亮度；

2級(jí)：略有光亮，看不清輪廓；

3級(jí)：光亮度較好，能看出輪廓；    

4級(jí)：表面光亮 ，較清晰地看出輪廓 (相當(dāng)于電化學(xué)拋光的表面質(zhì)量)；   

5級(jí)：鏡面般光亮。

電拋光的持續(xù)時(shí)間對(duì)拋光質(zhì)量影響很大。開(kāi)始的一段時(shí)間內(nèi)，整平速度較大,隨后則逐漸減緩,甚至?xí)p害表面已出現(xiàn)的光潔度。隨著電流密度與溫度的提高，電拋光的時(shí)間應(yīng)當(dāng)縮短。為了獲得光潔度較高的表面，?？刹捎梅磸?fù)幾次拋光的辦法，而每次拋光的時(shí)間則不要太長(zhǎng)。
鋁及其合金的電拋光,早先多是采用磷酸-硫酸溶液，純度高，拋光的效果也就越好。作為鋼的電拋光的電解液雖有很多種，但真正用于生產(chǎn)的并不多。為了延長(zhǎng)電解液的使用期限和節(jié)約磷酸，在電拋光碳鋼時(shí)，可以先在磷酸-硫酸-鉻酸酐溶液中進(jìn)行初拋,然后再用磷酸-鉻酸酐電解液精拋。如果使用大電流間斷地沖擊，后可使表面光潔度達(dá)到。鎳、銅等的電拋光也可在類似的溶液中進(jìn)行。

1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長(zhǎng)，技術(shù)成熟，目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動(dòng)直流電，不是純直流。為了比較脈動(dòng)成份的多少，一般用紋波系數(shù)來(lái)表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動(dòng)系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ?、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流?？煽毓枥酶淖兛煽毓韫軐?dǎo)通角來(lái)調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。

2、開(kāi)關(guān)電源
開(kāi)關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn)，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬(wàn)安培的大功率開(kāi)關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開(kāi)關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻，通過(guò)濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡(jiǎn)便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此，開(kāi)關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。

3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計(jì)算機(jī)等進(jìn)行控制，因此，除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動(dòng)穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無(wú)法自動(dòng)穩(wěn)定，隨電網(wǎng)電壓的波動(dòng)而波動(dòng)。而脈沖電源則擁有高精度的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動(dòng)調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽(yáng)極氧化或硬鉻電鍍時(shí)，往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定，生產(chǎn)時(shí)可自動(dòng)按順序進(jìn)行自動(dòng)調(diào)節(jié)。這一功能對(duì)硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時(shí)間可在0～255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。（3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時(shí)間均可獨(dú)立調(diào)節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

4、電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響
直流電源波形對(duì)電鍍質(zhì)量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時(shí)，產(chǎn)生微裂紋鉻層，輸出紋波過(guò)大時(shí)，裂紋不細(xì)密且分布不均勻，達(dá)不到要求的裂紋數(shù)。
光亮鍍銅都有一個(gè)規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，同時(shí)降低高流密度區(qū)光亮度，光亮均勻好。在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。
光亮鍍鎳對(duì)整流輸出紋波系數(shù)要求沒(méi)有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實(shí)需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質(zhì)量，且能保證后續(xù)套鉻的質(zhì)量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種，其原因是大生產(chǎn)中易引入雜質(zhì)且不好處理(包括四價(jià)錫離子)、允許溫度范圍窄，目前光亮劑多數(shù)不理想，該工藝也要求采用低紋波系數(shù)直流電源，否則會(huì)出現(xiàn)與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問(wèn)題：紋波系數(shù)大的直流電源及脈沖電源往往會(huì)加快溫升。紋波系數(shù)越大，其諧波分量也越大，能產(chǎn)生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升，采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。

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