A.調整工作班次:將白天班改為夜間班，一般情況下夜間氣溫比白天低5～10℃。 

B.多槽輪流工作:經一次或多次陽極化后，因焦耳效應，溶液溫度上升，當超過工藝允許的溫度時應停止工作，讓其自然冷卻，下一槽的工件在另一只陽極化槽中進行，這樣輪流操作既不影響生產，又可避開高溫溶液時對陽極化膜的影響。 

C.更換大容積槽子:增大陽極槽的容積，對于加工同樣表面積的工件，溶液的升溫度會相應減緩。 

D.減少一次裝載量:槽內裝載量減少后，陽極時產生的焦耳熱亦相應減少，可降低溶液的升溫速度。 

E.繼息式工作:當溶液溫度超過允許值時停止工作，待溫度降至工藝范圍時再繼續工作。 

F.水冷法:宜用井水，因井水具有冬暖夏涼的特點，能起到一定的控溫作用；而水塔上的儲備水是冬涼夏暖，不適宜作冷卻水用。 

2.5  染出顏色黑中顯紅
這種情況主要是由于未能控制好染色液的pH值，據了解，酸性元青是由酸性藍黑IOB和酸性橙Ⅱ組成，在一定的pH范圍內這兩種組分進入膜孔的比例符合陽極化膜染色純黑的要求，而當pH值超過或低于這個佳范圍時，進入膜孔中的兩組分比例失調，染上的顏色黑中顯青或黑中顯紅。試驗發現，染色液的pH值與鋁陽極化膜上染出色調的關系見下。 
解決方法:定量測定pH值，工作中要防止酸、堿性物質的混入，進入染色槽的工件要徹底沖洗干凈。  
2.6  工件下端近邊緣處染不上色其原因為工件未染上色的部位沒有生成氧化膜。經了解，工件在陽極化之前一天進行堿洗，且堿洗后的中和和水洗均不充分，并讓其自然晾干，這使得鋁件表面帶堿性的游離水緩慢地往下流，流至盡頭時集成水珠且久久不消失，水珠中的酸或堿性物質且接與鋁件發生反應<特別是水珠的周圍易吸納氧的部位，陽極氧化時未能被擊穿，阻止了陽極化過程中人工氧化膜的生成。 

4
電壓和陽極電流密度的影響
鋁制件通電氧化時，開始時很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜；隨之電阻增加電壓急劇升高，陽極電流密度逐漸減小。電壓繼續升高至一定值時，氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿，促使電流通過，氧化過程繼續進行。
鋼筆-陽極氧化能夠帶來豐富的色彩

5
雜質不利于陽極表面合金中含銅、硅等元素時，隨著氧化過程的進行，同樣由于在電解液中的陽極溶解作用，使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚。當Cu2+含量達0.02g/L時，氧化膜上會出現暗色條紋或黑色斑點。
電解液中可能存在的雜質是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子。當Cl-,F-、N03-等陰離子雜質含量高時，氧化膜的孔隙率大大增加，氧化膜表面變得粗糙和疏松。
這些雜質在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L。當超過這極限值，制品表面會發生穿孔而報廢。這些陰離子雜質來自配制電解液和清洗工序中的水源，因此必須嚴格控制水質。

6
電解液混濁度的負面影響
陽極氧化時，電解液的混濁度對氧化膜表面光亮度影響極大。
通常，硫酸氧化膜是透明的，它的主要成分是Al2O3。多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能，利用這一特點將鋁和鋁合金表面進行各種色彩圖案花紋的裝飾。
若在電解液中含有各種不透明的固態混濁物，也被吸附填充到膜孔中去，會使氧化膜透明度下降，膜層的反光率受到阻擋，從而影響氧化膜的光亮度。
混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質不凈，或由于陰陽極反應劇烈與溶液的對流作用使雜質不易沉淀于缸底，被分散懸浮在電解液中，電解液透明度較差，甚至不透明并帶有一定的色澤。因此，對那些外觀要求較高的鋁制品，在氧化過程中，必須對電解液進行連續過濾。

為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現象只會繼續到一個臨界點。一旦達到這一點，電流密度將急速下降，電壓仍相應增高，超過這一點，電壓和電流密度又穩步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點高時才會發生，低于這一點則出現腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產生。
電地光對金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們去除，這些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項較快的操作，通常在2~12分鐘內完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會需要更長的時間。

1、整流器的基本類型

  硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術成熟，目前是整流器主流產品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流。為了比較脈動成份的多少，一般用紋波系數來表示，其數值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為：三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流?？煽毓枥酶淖兛煽毓韫軐ń莵碚{整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數的受導通角控制，輸出紋波系數大于普通硅整流電路。

  2、開關電源

  開關電源兼有硅整流器的波形平滑性優點及可控硅整流器的調壓方便的優點，電流效率高體積小，數千安培至上萬安培的大功率開關電源已進入生產實用階段。開關電源其頻率已達音頻，通過濾波實現低紋波輸出更為簡便易行。而且穩流、穩壓等功能更易實現。因此，開關電源是今后發展的方向。

  3、脈沖電源設備

  脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機等進行控制，因此，除實現脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動穩流穩壓。傳統硅整流器電流或電壓無法自動穩定，隨電網電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調節功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調節功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時，往往需要進行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運行模式的脈沖電源則只需提前設定，生產時可自動按順序進行自動調節。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時間可在0～255秒內調節設定。（3)雙向脈沖功能。正負脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨立調節，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。

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