430不銹鋼圓棒：鐵素體不銹鋼，裝飾用，例如用于汽車(chē)飾品。良好的成型性，但耐溫性和抗腐蝕性要    差     不銹鋼化學(xué)拋光液又名不銹鋼電解拋光液，是多種電解拋光液的統(tǒng)稱，成分有磷酸、硫酸等多種化學(xué)助劑，主要用于不銹鋼工件的電解拋光以及對(duì)各種不銹鋼配件進(jìn)行酸洗除雜。  原液使用，鉛板做陰極（負(fù)極），工件做陽(yáng)極（正極），60-65度，電流密度10-25安培/平方分米，電壓8—10伏，時(shí)間5-8分鐘。

注意事項(xiàng)   

1.拋光液在其使用初期電解拋光時(shí)會(huì)產(chǎn)生泡沫，因此拋光液液面與拋光槽頂部之間的距離不應(yīng)≤15cm，可以選用盛華力拓不銹鋼電解液，不起泡沫。

2. 不銹鋼工件在進(jìn)入拋光槽之前應(yīng)盡可能將殘留在工件表面的水分除去，因工件夾帶過(guò)多水分有可能造成拋光面出現(xiàn)嚴(yán)重麻點(diǎn)，局部浸蝕而導(dǎo)致工件報(bào)廢。   

3. 在電解拋光過(guò)程中，作為陽(yáng)極的不銹鋼工件，其所含的鐵、鉻元素不斷轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘匐x子溶入拋光液內(nèi)而不在陰極表面沉積。隨著拋光過(guò)程的進(jìn)行，金屬離子濃度不斷增加，當(dāng)達(dá)到一定數(shù)值后，這些金屬離子以磷酸鹽和硫酸鹽形式不斷從拋光液內(nèi)沉淀析出，沉降于拋光槽底部。為此，拋光液必須定期過(guò)濾，去除這些固體沉淀物，選用盛華力拓不銹鋼電解液，新工藝制造解決了沉淀類物質(zhì)過(guò)多的工藝。   

4. 在拋光槽運(yùn)行過(guò)程中，除磷酸、硫酸不斷消耗外水分因蒸發(fā)和電解而損失，此外，高粘度拋光液不斷被工件夾帶損失，拋光液液面不斷下降，需經(jīng)常往拋光槽補(bǔ)加新鮮拋光液和水    

5、中和后排放符合當(dāng)今環(huán)保要求。    

6、本品有腐蝕性，勿入眼、口，勿觸皮膚。如誤觸，立即用清水沖洗，嚴(yán)重者，按強(qiáng)酸燒傷就醫(yī)；  

7、密封陰涼處保存，長(zhǎng)期有效。化學(xué)拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份，如果不銹鋼在溶液中溶解，拋光便不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制過(guò)程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對(duì)溶液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。不銹鋼化學(xué)拋光能否順利進(jìn)行，取決于上述成分的合理配合。

采用電拋光獲得的表面亮度(陽(yáng)極光澤)不同于研磨或機(jī)械拋光獲得的亮度。它無(wú)刻痕、不變形、無(wú)方向性且顯露出金屬的本色。由于表面幾何形狀是三維的，表面光滑度也有所不同，用普通的觸針型儀器測(cè)定是困難的且不準(zhǔn)確。與一般的想法不同，表面光亮度不是表示光滑度。在適當(dāng)?shù)碾姃伖鈼l件下，表面粗糙度(按微米測(cè)量)通常從66%下降到33%，但當(dāng)微米值低于電拋光前時(shí)，改善的百分率也會(huì)相應(yīng)下降。有時(shí)，由于不良冶金狀態(tài)或表面狀態(tài)，微米值不會(huì)下降，甚至有時(shí)會(huì)有所提高。這些冶金狀態(tài)和表面狀態(tài)在很大程度上決定理想的電拋光效果。產(chǎn)生不好效果主要的原因是：晶粒尺寸結(jié)構(gòu)不均、非金屬夾雜物、定向軋輥痕跡、鹽類或氧化物污染、酸洗過(guò)度以及淬火過(guò)度。為獲得真正的反射性精飾表面所作的電拋光，微粒沉積物則是致關(guān)重要的。

1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時(shí)，由同一臺(tái)電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來(lái)，國(guó)產(chǎn)多功能脈沖電源技術(shù)已趨于成熟，其中脈沖波形垂直程度，波形平穩(wěn)程度、穩(wěn)定性、抗干擾性等指標(biāo)達(dá)到甚至超過(guò)了國(guó)外水平。
直流電源波形對(duì)電鍍質(zhì)量有突出的影響，例如：高頻率定脈寬高頻穩(wěn)壓/穩(wěn)流脈沖電源電鍍時(shí)會(huì)產(chǎn)生特殊效應(yīng)，這也是普通直流電源電鍍無(wú)法達(dá)到的效果，有些現(xiàn)象還不能用常規(guī)電化學(xué)理論來(lái)加以解釋。而直流波形對(duì)電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進(jìn)行預(yù)測(cè)，只能通過(guò)大量的試驗(yàn)來(lái)作相對(duì)比較，篩選出適宜的波形。

2 電鍍電源對(duì)電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰，這一點(diǎn)已為不少人認(rèn)同，但實(shí)踐中仍有因?qū)ζ湔J(rèn)識(shí)不足，往往由于紋波系數(shù)過(guò)大影響套鉻質(zhì)量而束手無(wú)策的事時(shí)有發(fā)生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。
對(duì)于經(jīng)常使用反向電解的電鍍硬鉻生產(chǎn)，需要電源極性換向裝置。簡(jiǎn)單的方法是使用手動(dòng)換向開(kāi)關(guān)。由于電流很大，開(kāi)關(guān)通、斷時(shí)會(huì)形成較大的電火花，開(kāi)關(guān)很容易損壞。將觸點(diǎn)浸入變壓器油中可以延長(zhǎng)使用壽命。可控硅整流器實(shí)現(xiàn)換向比較容易，由于是無(wú)觸點(diǎn)換向，不會(huì)產(chǎn)生火花腐蝕。如電流變化不大時(shí)，可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對(duì)鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復(fù)調(diào)整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無(wú)效。經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)查驗(yàn)，采用1000A老式可控硅整流器，且平均電流僅200A左右，負(fù)荷率很低，顯然輸出紋波系數(shù)太大。換接一臺(tái)雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉(zhuǎn)為正常。另有某廠鍍鉻上午生產(chǎn)正常，下午即出現(xiàn)裝飾鉻局部發(fā)灰，無(wú)法生產(chǎn)，懷疑鍍液故障，反復(fù)加硫酸、碳酸鋇調(diào)整一兩天，均無(wú)法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測(cè)定各整流管電流，發(fā)現(xiàn)斷路2支，更換新管后，故障消除。
鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過(guò)大時(shí)，裂紋不細(xì)密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻，也可得到優(yōu)良的鍍層。研究表明，當(dāng)采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下，光亮鍍銅都有一個(gè)規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標(biāo)。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設(shè)備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實(shí)踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。據(jù)有關(guān)資料，二十多年前，國(guó)內(nèi)在開(kāi)發(fā)MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時(shí)就已證實(shí)。規(guī)律是：輸出紋波系數(shù)越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會(huì)越小。遺憾的是時(shí)至今日并未引起電鍍工藝技術(shù)人員的重視。

為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關(guān)的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現(xiàn)象只會(huì)繼續(xù)到一個(gè)臨界點(diǎn)。一旦達(dá)到這一點(diǎn)，電流密度將急速下降，電壓仍相應(yīng)增高，超過(guò)這一點(diǎn)，電壓和電流密度又穩(wěn)步增長(zhǎng)。電拋光只有在電流密度比臨界點(diǎn)高時(shí)才會(huì)發(fā)生，低于這一點(diǎn)則出現(xiàn)腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產(chǎn)生。
電地光對(duì)金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來(lái)看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號(hào)及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們?nèi)コ@些線和刻痕初是肉眼看不見(jiàn)的。電拋光是一項(xiàng)較快的操作，通常在2~12分鐘內(nèi)完成。但如果從粗糙表面開(kāi)始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會(huì)需要更長(zhǎng)的時(shí)間。

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