1.2 開關電源
目前一種新型電鍍電源設備-高頻開關電源。它兼有硅整流器的波形平滑性優點及可控硅整流器的調壓方便的優點,電流效率高(可達90%以上),體積小,是大有前途的整流器。目前制造技術已解決了功率問題,數千安培至上萬安培的大功率開關電源已進入生產實用階段。
開關電源其頻率已達音頻,通過濾波實現低紋波輸出更為簡便易行。而且穩流、穩壓等功能更易實現。
1.3 脈沖電源設備
隨著電力電子科學技術的發展,電鍍整流器正在由單一功能向多功能發展。由于脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機等進行控制,因此,除實現脈沖輸出之外,一般具備多種控制功能。
1.3.1.自動穩流穩壓。傳統硅整流器電流或電壓無法自動穩定,隨電網電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調節功能。如電網三相電壓波動達上百伏時,脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調節功能一般具有二種模式:
,恒電流限壓模式。當電鍍工藝參數,如零件面積、溫度、濃度、酸堿度等工藝條件發生改變時,常規整流器電流會發生波動。而恒電流模式下,輸出電流自動恒定在設定值不發生改變。這對需精確計算硬鉻厚度情況下是很有用的。采用恒流模式時的限壓功能目的是保護設備不被燒壞。
第二,恒電壓限流模式。當電鍍工藝參數發生改變時,輸出電壓自動恒定在設定值不發生改變。這種模式硬鉻電鍍不常使用,但對于鋁氧化著色則大有作用。
1.3.2 多段式運行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時,往往需要進行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。傳統電源只能靠手工實現。而具有多段式運行模式的脈沖電源則只需提前設定,生產時可自動按順序進行自動調節。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的。目前國產脈沖電源已達到三段式運行,每一段時間可在0~255秒內調節設定。
1.3.3 雙向脈沖功能。正負脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨立調節,使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝,可獲得不同物理性能的鍍層。

化學拋光
化學拋光是不銹鋼常用的表面處理工藝,與電化學拋光工藝相比,其大優點是不需要直流電源和特殊夾具,可以拋光形狀復雜的零件,生產率很高。就功能性而言,化學拋光除了能得到物理、化學清潔度的表面外,還能除去不銹鋼表面的機械損傷層和應力層,得到機械清潔度的表面,這有利于防止零件的局部腐蝕,提高機械強度、延長零件使用壽命。從本世紀40年代初有了關于不銹鋼化學拋光的以來,迄今已有不少配方公諸于世,但人們在實際應用時仍然感到很困難。因為不銹鋼品種繁多,不同牌號的不銹鋼具有不同的腐蝕規律,不可能采用同一種溶液,所以不銹鋼化學拋光溶液有多種類型。
化學拋光溶液的基本組成包括腐蝕劑、氧化劑和水。腐蝕劑是主要成份,如果不銹鋼在溶液中溶解,拋光便不能進行。氧化劑和添加劑可抑制過程,使反應朝有利于拋光的方向進行。水對溶液濃度起調節作用,便于反應產物的擴散。不銹鋼化學拋光能否順利進行,取決于上述成分的合理配合。

一般需要注意的問題,首先我們知道的是,一般在生產出來的不銹鋼彈簧中,它的表面可能有很多瑕疵或者是毛刺的存在,而且在性能上是非常穩定的,像是這個防腐性,所以我們需要這個拋光可以達到改善的效果,其次就是在操作的過程中,一般是需要清洗的,但是這個方式和液體都是我們平時的清洗工作不一樣的,一般都是酸洗的方式,所以在危險度上面是非常大的,我們對于防護措施上面肯定要注意的,而且對于這個清洗的徹底度也是有嚴格的規范,一般來說,不僅是要清洗的均勻,而且表面一點油污都不能殘留的,后就是在拋光結束以后我們對于效果要檢查。一般需要注意的問題,首先我們知道的是,一般在生產出來的不銹鋼彈簧中,它的表面可能有很多瑕疵或者是毛刺的存在,而且在性能上是非常穩定的,像是這個防腐性,所以我們需要這個拋光可以達到改善的效果,其次就是在操作的過程中,一般是需要清洗的,但是這個方式和液體都是我們平時的清洗工作不一樣的,一般都是酸洗的方式,所以在危險度上面是非常大的,我們對于防護措施上面肯定要注意的,而且對于這個清洗的徹底度也是有嚴格的規范,一般來說,不僅是要清洗的均勻,而且表面一點油污都不能殘留的,后就是在拋光結束以后我們對于效果要檢查。

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電壓和陽極電流密度的影響
鋁制件通電氧化時,開始時很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜;隨之電阻增加電壓急劇升高,陽極電流密度逐漸減小。電壓繼續升高至一定值時,氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿,促使電流通過,氧化過程繼續進行。
鋼筆-陽極氧化能夠帶來豐富的色彩
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雜質不利于陽極表面合金中含銅、硅等元素時,隨著氧化過程的進行,同樣由于在電解液中的陽極溶解作用,使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚。當Cu2+含量達0.02g/L時,氧化膜上會出現暗色條紋或黑色斑點。
電解液中可能存在的雜質是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子。當Cl-,F-、N03-等陰離子雜質含量高時,氧化膜的孔隙率大大增加,氧化膜表面變得粗糙和疏松。
這些雜質在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L。當超過這極限值,制品表面會發生穿孔而報廢。這些陰離子雜質來自配制電解液和清洗工序中的水源,因此必須嚴格控制水質。
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電解液混濁度的負面影響
陽極氧化時,電解液的混濁度對氧化膜表面光亮度影響極大。
通常,硫酸氧化膜是透明的,它的主要成分是Al2O3。多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能,利用這一特點將鋁和鋁合金表面進行各種色彩圖案花紋的裝飾。
若在電解液中含有各種不透明的固態混濁物,也被吸附填充到膜孔中去,會使氧化膜透明度下降,膜層的反光率受到阻擋,從而影響氧化膜的光亮度。
混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質不凈,或由于陰陽極反應劇烈與溶液的對流作用使雜質不易沉淀于缸底,被分散懸浮在電解液中,電解液透明度較差,甚至不透明并帶有一定的色澤。因此,對那些外觀要求較高的鋁制品,在氧化過程中,必須對電解液進行連續過濾。






