電拋光時,電流在作為陽極的金屬制品表面流過,將會在表面上形成氧化膜、鹽膜或氧的吸附層等,使陽極的金屬溶解速率急劇下降,即處于鈍化狀態。但這種鈍化膜層又有可能在電解液中溶解,而使陽極重新活化。在某一電流密度下,金屬鈍化與金屬溶解在交替地進行著。金屬表面上凸起部分鈍化的穩定性低于凹陷部分,溶解速率較高。于是凹陷部分受到保護,而凸起部分優先溶解,遂對金屬制品表面起到了整平與出光的作用。不過電拋光理論仍然是不夠成熟的。
電拋光用的陰極只起傳遞電流的作用。對陰極材料的主要要求是它們在電解液中的化學穩定性好,使用壽命長和導電能力強。常用鉛、銅、不銹鋼等作陰極。
電拋光的電解液通常都是以磷酸為主要成分,同時也需要加入一定的氧化劑(如硫酸、鉻酸酐等)。在不通電的情況下,電解液應當對被拋光的金屬沒有明顯的腐蝕作用。并要求電解液對陽極溶解產物的溶解度大,且容易被清除。此外要求電解液的穩定性好、價廉和毒性低。根據需要也可向電解液中添加少量有機物(如甘油、纖維素等)作為緩蝕劑。使用高氯酸-乙酸電解液進行電拋光,可獲得高光潔度的表面。但這種電解液不太穩定,且有爆炸危險,使用不便。這種電解液主要用于制備金相磨片。

不僅如此,每一次鋁型材的來料檢測,也都可以用儀器來檢測每一批次的顏色和光澤,嚴格控制后續可能產生色差問題的源頭。
首先 ,我們應該要弄清楚產生掛灰現象時,灰的種類,一般分三類:
1、“前處理一直攜帶的灰”,是指因為前處理沒有處理干凈,一直攜帶著到了后封孔環節仍然攜帶的灰;
2、“封閉白霧”,是指在封閉不良的情況下,工件表面呈現的白色的,霧狀的灰,往往很難擦掉,甚至擦掉了又會回來的霧;而噴砂件更是容易出現掛灰的現象,是因為其本身表面凹凸不平,這樣前處理比較難清洗,陽極氧化膜孔口方向也因為噴砂的原因而方向不一,封孔的時候,比較難控制到剛好封閉優良而又不掛封孔灰;
3、“封閉灰”,是指因為完全堵住微孔后,吸附在工件表面的臟東西,可以是過封孔的封孔劑成份,也可以是槽液中
1、判斷是否為“前處理灰”,如果出現的灰,輕松能擦掉,但是封閉質量還是不良,那就是前處理的灰,(因為水難洗掉,輕松能擦掉)。
解決辦法:請檢查前處理相關槽液,尤其是中和槽(其實判斷方法很簡單,用紙巾擦拭,無黑灰,黃灰,就基本判定是OK的);
2、判斷是否為“封閉白霧”如果封閉不良,灰難擦,那就是封閉白霧,
解決辦法:請檢查封孔槽液的和相關水洗槽的PH值,(往往是偏酸導致的);

1 整流器的基本原理及類型
1.1 傳統硅整流器
硅整流器使用歷史長,技術成熟,目前是整流器主流產品。
1.1.1 整流電路。工業生產中一般采用三相調壓器調壓,50Hz三相工頻變壓器降壓的普通硅整流器。各種整流電路獲得的均是脈動直流電,不是純直流,或多或少地含有交流成分。為了比較脈動成份的多少,可用紋波系數來表示,其含義為交流成份在直流成分中占的百分比,其數值越小,交流成份越少,越接近純直流。
各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為:三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。其中后者工作時整流元件并聯導通,波形為平滑,整流效率較高,工作也較為可靠,時為常用的一種。
為了獲得低紋波輸出,則必須采用濾波或其它特殊措施。利用電容、電感貯能元件進行濾波,是將脈動直流轉變為較為平滑的直流的常用措施。但實際生產中,除試驗用的小型整流器之外,工業生產基本上不進行濾波。特殊情況可使用大電感。電容在低電壓、大電流情況下不適用于濾波。電容濾波,對工頻整流只適合于非常小功率的整流電源。例如輸出10A的單相全波整流器,要達到低紋波輸出,其濾波電容要達0.1F以上。隨著頻率的提高,所需電容量減小。
可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管輸出的是間斷脈沖波,其紋波系數的受導通角控制,輸出紋波系數大于普通硅整流電路。特別是在使用電流低于額定電流較大的情況下,輸出波形脈動系數更大。
1.1.2.整流元件類型
整流元件即通常所說的二極管。由于整流器所有的輸出電流都要經過整流元件,因此,可以說是整流器的心臟。整流元件分為硅整流元件和可控硅整流元件二種。鍍鉻整流器主要使用硅整流元件。雖然可控硅技術已有了長足的發展,且在電鍍上應用也日趨增多,但筆者還是推薦使用硅整流器。其原因主要是波形問題。可控硅整流是采用控制整流元件導通時間與截止時間長短來控制電流的。整流器滿負荷使用時波形好。但輸出電流較小時電流波形變差。電流越小,波形越差。而硅整流器輸出電流大小對波形幾乎無影響。

一些以硫酸為基除灰的商品化除灰添加劑,大多添加一種或多種添加劑,如氧化劑等。
1.溶液的溫度與電壓的關系
在額定的范圍內溶液的溫度越低,所需的電壓應越高,因為溶液溫度較低時氧化膜生成速度較緩慢,膜層較為致密,為獲得一定厚度的氧化膜,陽極氧化過程需升高電壓。當溶液的溫度較高時,氧化膜的溶解速度加塊,且生成的氧化膜是疏松的,此時降低電壓能適當改善氧化膜的質量。
2.陽極氧化溶液溫度與時間的關系
溶液的溫度越低,所需的陽極氧化時間應越長。因為溶液溫度較低時氧化膜的生成速度緩慢。溶液的溫度升高時則氧化膜的生成速度加快。此時要縮短陽極氧化時間,否則由于氧化膜的外層電阻加大而導致膜層溶解,出現工件尺寸的改變、表面粗糙掉膜的現象。
以上措施只是在既無降溫設備,又無加溫裝置的條件下采取的應急措施。
二、染黑色溶液的配方與配制過程
1.配方及工藝條件
酸性毛元
ATT 20~30g/L
酸性湖藍
2~3g/L
溫度
50~70℃
時間
10~15min
PH值
3~3.5(或4.5~5.5)
2.配制方法
首先煮沸溶液,促使染料溶解完全,保證無疙瘩。待溶液冷卻后用濾紙過濾,濾去不溶物微粒及液面上漂浮的油狀物質。后測量pH值,用冷醋酸或氨水調整至工藝要求。






