電源的檢修與維護
     在電鍍電源的使用過程中，用戶需要根據使用的環境定期對電源進行檢修和維護，下面根據我廠的一些經驗簡單的介紹下維護和檢修的步驟：

     A、打開電源箱之前需要斷開外部電源30分鐘。

     B、打開電源箱之后，清掃各部分的塵埃，可用干布或者毛刷，也可以用壓縮空氣吹試，但應注意氣壓不可太高，以免損壞元器件。

     C、檢查電源是否正常，檢查空氣開關分段是否可靠。

     D、檢查風扇工作是否異常，有無雜聲。

     E、檢查輸出銅排有無氧化的現象，要及時進行處理。

     F、檢查螺絲，螺帽有無異常松動的情況等。

     G、對于水冷電鍍電源，如果發現機器有水流出，應檢查水路中是否漏水，應擰緊卡簧。

電鍍屬于電解加工過程，電源的因素必將對電鍍工藝過程產生直接影響，電鍍電源在電鍍工藝中具有重要地位。電鍍電源和低紋波系數整流電源在電鍍行業中的應用，讓電鍍界同仁在選擇整流電源、解決電鍍故障、提高電鍍質量有所幫助。

1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來，國產多功能脈沖電源技術已趨于成熟，其中脈沖波形垂直程度，波形平穩程度、穩定性、抗干擾性等指標達到甚至超過了國外水平。
直流電源波形對電鍍質量有突出的影響，例如：高頻率定脈寬高頻穩壓/穩流脈沖電源電鍍時會產生特殊效應，這也是普通直流電源電鍍無法達到的效果，有些現象還不能用常規電化學理論來加以解釋。而直流波形對電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進行預測，只能通過大量的試驗來作相對比較，篩選出適宜的波形。

2 電鍍電源對電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發花、發灰，這一點已為不少人認同，但實踐中仍有因對其認識不足，往往由于紋波系數過大影響套鉻質量而束手無策的事時有發生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。
對于經常使用反向電解的電鍍硬鉻生產，需要電源極性換向裝置。簡單的方法是使用手動換向開關。由于電流很大，開關通、斷時會形成較大的電火花，開關很容易損壞。將觸點浸入變壓器油中可以延長使用壽命。可控硅整流器實現換向比較容易，由于是無觸點換向，不會產生火花腐蝕。如電流變化不大時，可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復調整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無效。經現場查驗，采用1000A老式可控硅整流器，且平均電流僅200A左右，負荷率很低，顯然輸出紋波系數太大。換接一臺雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉為正常。另有某廠鍍鉻上午生產正常，下午即出現裝飾鉻局部發灰，無法生產，懷疑鍍液故障，反復加硫酸、碳酸鋇調整一兩天，均無法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測定各整流管電流，發現斷路2支，更換新管后，故障消除。
鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過大時，裂紋不細密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻，也可得到優良的鍍層。研究表明，當采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下，光亮鍍銅都有一個規律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴展低電流密度區光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數大小有很大關系。據有關資料，二十多年前，國內在開發MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時就已證實。規律是：輸出紋波系數越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會越小。遺憾的是時至今日并未引起電鍍工藝技術人員的重視。

電拋光的持續時間對拋光質量影響很大。開始的一段時間內，整平速度較大,隨后則逐漸減緩,甚至會損害表面已出現的光潔度。隨著電流密度與溫度的提高，電拋光的時間應當縮短。為了獲得光潔度較高的表面，常可采用反復幾次拋光的辦法，而每次拋光的時間則不要太長。
鋁及其合金的電拋光,早先多是采用磷酸-硫酸溶液，純度高，拋光的效果也就越好。作為鋼的電拋光的電解液雖有很多種，但真正用于生產的并不多。為了延長電解液的使用期限和節約磷酸，在電拋光碳鋼時，可以先在磷酸-硫酸-鉻酸酐溶液中進行初拋,然后再用磷酸-鉻酸酐電解液精拋。如果使用大電流間斷地沖擊，后可使表面光潔度達到。鎳、銅等的電拋光也可在類似的溶液中進行。

對于直流電源來說，除了直流發電機組或各種電池的電源在正常有效時段是平穩的直流外，由交流電源經整流而得到的直流電源，都多少帶有脈沖因素，尤其是半波整流，明顯有負半周是沒有正向電流的，即使是單相全波，也存在一定脈沖率，加上所采用的濾波方法的不同、供電電網的穩定性等，都會使電鍍電源存在著明顯的不同。但是，在沒有注意到這種不同時，其對電鍍過程的影響往往會被視。

  通常認為，平穩的直流或接近平穩的直流是理想的電鍍電源。但是，實際情況并非如此，在有些場合，有一定脈沖的電流可能對電鍍過程更為有利。

  事實上，早在20世紀l0年代，就有人用換向電流進行過金的提純。在20世紀50年代，則有人用這種方法試驗從溴化鉀一三溴化鋁中鍍鋁，與此同時，可控硅整流裝置的出現，使一些電鍍技術開發人員注意到不同電源波形對電鍍過程的影響，這種影響有時是有利的，有時是不利的。到了20世紀70年代，電源對電鍍過程存在影響已經成為電鍍工作者的共識。現在，電源波形已經作為工藝參數之一在有些工藝中成為必要條件。

電鍍屬于電解加工過程，電源的因素必將對電鍍工藝過程產生直接影響，電鍍電源在電鍍工藝中具有重要地位。電鍍電源和低紋波系數整流電源在電鍍行業中的應用，讓電鍍界同仁在選擇整流電源、解決電鍍故障、提高電鍍質量有所幫助。

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