A.調整工作班次:將白天班改為夜間班，一般情況下夜間氣溫比白天低5～10℃。
B.多槽輪流工作:經一次或多次陽極化后，因焦耳效應，溶液溫度上升，當超過工藝允許的溫度時應停止工作，讓其自然冷卻，下一槽的工件在另一只陽極化槽中進行，這樣輪流操作既不影響生產，又可避開高溫溶液時對陽極化膜的影響。
C.更換大容積槽子:增大陽極槽的容積，對于加工同樣表面積的工件，溶液的升溫度會相應減緩。
D.減少一次裝載量:槽內裝載量減少后，陽極時產生的焦耳熱亦相應減少，可降低溶液的升溫速度。
E.繼息式工作:當溶液溫度超過允許值時停止工作，待溫度降至工藝范圍時再繼續(xù)工作。
F.水冷法:宜用井水，因井水具有冬暖夏涼的特點，能起到一定的控溫作用；而水塔上的儲備水是冬涼夏暖，不適宜作冷卻水用。
2.5 染出顏色黑中顯紅
這種情況主要是由于未能控制好染色液的pH值，據(jù)了解，酸性元青是由酸性藍黑IOB和酸性橙Ⅱ組成，在一定的pH范圍內這兩種組分進入膜孔的比例符合陽極化膜染色純黑的要求，而當pH值超過或低于這個佳范圍時，進入膜孔中的兩組分比例失調，染上的顏色黑中顯青或黑中顯紅。試驗發(fā)現(xiàn)，染色液的pH值與鋁陽極化膜上染出色調的關系見下。
解決方法:定量測定pH值，工作中要防止酸、堿性物質的混入，進入染色槽的工件要徹底沖洗干凈。
2.6 工件下端近邊緣處染不上色其原因為工件未染上色的部位沒有生成氧化膜。經了解，工件在陽極化之前一天進行堿洗，且堿洗后的中和和水洗均不充分，并讓其自然晾干，這使得鋁件表面帶堿性的游離水緩慢地往下流，流至盡頭時集成水珠且久久不消失，水珠中的酸或堿性物質且接與鋁件發(fā)生反應<特別是水珠的周圍易吸納氧的部位，陽極氧化時未能被擊穿，阻止了陽極化過程中人工氧化膜的生成。
可控硅整流器
高頻開關電源
● 效率
70%左右
90%
● 變壓器
有工頻變壓器，體積特別大，重量200kg
無工頻變壓器，有高頻變壓器，重量30kg
● 受控器件
可控SCR
IGBT
● 節(jié)能效率
差
節(jié)能明顯，與普通可控硅比可節(jié)省電15%-30%
● 帶載啟停
不允許
允許
● 控制電路
復雜，有同步要求，不易集成
簡單采用專用集成板電路，并做過防腐處理，完全密封
● 穩(wěn)流精度
﹤5%
﹤1%
● 冷卻方式
水冷/風冷
風冷/水冷
● 穩(wěn)壓精度
﹤5%
﹤1%
● 功率因素
0-0.9可變
全范圍可達0.9以上
● 工作頻率
50HZ
20KHZ
● 控制方式
移相觸發(fā)
PWM調制
● 輸出直流
半波
高密度直流方波
● 對電網干擾
大，且不易消除
很小，易消除
● 調節(jié)影響速度
一般
極快
● 體積及整機重量
體積大，整機重量重
體積小，整機重量輕。只有普通可控硅的1/5
●輸入電壓允許波動范圍
±10%
±15%
高頻開關電源安裝應注意什么？
二）、槽液的要求及控制：
1、槽液的成份及工藝條件：
CrO3: 240-260g/l
H2SO4: 2.4-3.0g/l
Cr3+: 2.2-2.8g/l
溫度： 50-55℃
陰極電流密度： 25-35A/dm2
S陰極面積:S陽極面積 1:2.5-3
2、每周對槽液進行兩次分析，控制槽液在工藝范圍內。
3、根據(jù)化驗結果補加材料，要求溶解好后加入鍍槽中，并做好記錄。
三）、設備的要求：
1、電源：對直流電源應發(fā)揮其應有效率，一般的利用率不低于65%、不高于85%。波紋系數(shù)不高于5%。
2、銅排、陰陽極桿應根據(jù)電源的要求配制，以免在生產過程中發(fā)熱，損失電能，使電流不能有效輸出。
3、陽極：陽極面積應是陰極的2.5-3倍，在實際生產中以掛滿為標準。
4、掛具：掛具應根據(jù)產品的不同而設計，總的原則是導電好。
5、槽體：溶液體積大一點，成份變化小，同時可適應大工件操作。
四）、操作要求：
1、做好半成品毛坯的檢查，對不合格的毛坯能修復的做好修復工作，不能修復的另行處理。
2、經檢驗合格的毛坯按公差大小分類，轉入下一道工序。
3、按電鍍硬鉻的工藝流程進行操作。
五）、電鍍注意事項：
1、毛坯前處理應干凈。
2、毛坯在槽液中預熱應充分，工件溫度應接近槽液溫度。
3、電鍍過程中溫度變化應控制在±2℃范圍內。
4、鍍鉻零件進入槽液內離液面不應低于50mm。
1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術成熟，目前是整流器主流產品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流。為了比較脈動成份的多少，一般用紋波系數(shù)來表示，其數(shù)值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動系數(shù)不同。其由大到小的次序為：三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數(shù)的受導通角控制，輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。
2、開關電源
開關電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點及可控硅整流器的調壓方便的優(yōu)點，電流效率高體積小，數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關電源已進入生產實用階段。開關電源其頻率已達音頻，通過濾波實現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實現(xiàn)。因此，開關電源是今后發(fā)展的方向。
3、脈沖電源設備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機等進行控制，因此，除實現(xiàn)脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動穩(wěn)定，隨電網電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調節(jié)功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調節(jié)功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。（2) 多段式運行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時，往往需要進行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運行模式的脈沖電源則只需提前設定，生產時可自動按順序進行自動調節(jié)。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時間可在0～255秒內調節(jié)設定。（3)雙向脈沖功能。正負脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨立調節(jié)，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
4、電鍍電源對電鍍工藝的影響
直流電源波形對電鍍質量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發(fā)花、發(fā)灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時，產生微裂紋鉻層，輸出紋波過大時，裂紋不細密且分布不均勻，達不到要求的裂紋數(shù)。
光亮鍍銅都有一個規(guī)律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴展低電流密度區(qū)光亮范圍，同時降低高流密度區(qū)光亮度，光亮均勻好。在實踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現(xiàn)較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關系。
光亮鍍鎳對整流輸出紋波系數(shù)要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質量，且能保證后續(xù)套鉻的質量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種，其原因是大生產中易引入雜質且不好處理(包括四價錫離子)、允許溫度范圍窄，目前光亮劑多數(shù)不理想，該工藝也要求采用低紋波系數(shù)直流電源，否則會出現(xiàn)與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問題：紋波系數(shù)大的直流電源及脈沖電源往往會加快溫升。紋波系數(shù)越大，其諧波分量也越大，能產生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升，采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。
