23.影響電化學(xué)拋光的主要因素有哪些?溫度,時間,工件材質(zhì),電解質(zhì),電壓,電流,工件擺放位置。
24.在做不銹鋼電解拋光時,表面吸附一層淺紅色物質(zhì),再次放入電解液會有短時間的反應(yīng),什么原因?
原因分析:用銅掛具,銅離子進(jìn)入電解液吸附到陽極表面,影響拋光質(zhì)量,再次放入會有短時間反應(yīng)是因?yàn)殡娊庖簩⒐ぜ砻娴你~離子溶解了。
解決方法:選用鈦掛具,在夾具裸露處用聚氯乙烯樹脂烘烤成膜,在接觸點(diǎn)刮去絕緣膜,漏出金屬以利于導(dǎo)電。
25.陰陽極的佳面積比是多少?陽極比陰極為1:2—3.5之間。
26.兩極佳極距是多少?陰極距陽極佳距離為10—30厘米。
28.初次進(jìn)行電解拋光,不僅沒有拋出亮度,而且工件表面全部變成黑色或灰色,是什么原因引起的?
原因分析:發(fā)生這種現(xiàn)象一般是兩極接反了,接反后鉛板成正極溶解,工件成陰極吸附,工件溶解在溶液中的鐵鎳鉻離子吸附在工件表面,形成了一層結(jié)合力不好的膜層。
解決方法:將正負(fù)極重新連接,陽極接正極,陰極接負(fù)極。

可控硅整流器
高頻開關(guān)電源
● 效率
70%左右
90%
● 變壓器
有工頻變壓器,體積特別大,重量200kg
無工頻變壓器,有高頻變壓器,重量30kg
● 受控器件
可控SCR
IGBT
● 節(jié)能效率
差
節(jié)能明顯,與普通可控硅比可節(jié)省電15%-30%
● 帶載啟停
不允許
允許
● 控制電路
復(fù)雜,有同步要求,不易集成
簡單采用專用集成板電路,并做過防腐處理,完全密封
● 穩(wěn)流精度
﹤5%
﹤1%
● 冷卻方式
水冷/風(fēng)冷
風(fēng)冷/水冷
● 穩(wěn)壓精度
﹤5%
﹤1%
● 功率因素
0-0.9可變
全范圍可達(dá)0.9以上
● 工作頻率
50HZ
20KHZ
● 控制方式
移相觸發(fā)
PWM調(diào)制
● 輸出直流
半波
高密度直流方波
● 對電網(wǎng)干擾
大,且不易消除
很小,易消除
● 調(diào)節(jié)影響速度
一般
極快
● 體積及整機(jī)重量
體積大,整機(jī)重量重
體積小,整機(jī)重量輕。只有普通可控硅的1/5
●輸入電壓允許波動范圍
±10%
±15%
高頻開關(guān)電源安裝應(yīng)注意什么?

當(dāng)前電拋光應(yīng)用得還不太廣泛的原因是它的成本比較高。需要通過實(shí)驗(yàn)進(jìn)一步尋求新型的、廉價的和能對多種金屬進(jìn)行電拋光的通用電解液,并且要繼續(xù)探討延長電解液使用壽命和使廢電解液再生的有效措施。
通電后,在被拋光金屬表面上形成一層極化膜,使金屬離子通過這層薄旗擴(kuò)散。表面上的顯微及宏觀的凸點(diǎn)或粗糙處的高點(diǎn)及毛刺區(qū)的電流密度比表面其余部分大,并以較快的速度溶解,從而達(dá)到整平和去毛刺的目的。通過延長拋光時間、提高拋光溫度和電流密度可得到光亮的表面。
電拋光后的表面光潔度主要由拋光前的表面質(zhì)量和光潔度決定。緞狀表面拋光成光亮表面是由時間、溫度、電流密度所控制。這三種因素的組合,會產(chǎn)生低反射或緞狀表面。采用延長時間、提高溫度或增加電流密度可獲得光亮表面。
陰極釋放氫,陽極釋入氧,對解釋表面鈍化及在一定程度上改善耐腐蝕性不夠全面。與電鍍不同,電拋光不存在氫脆。

1、整流器的基本類型
硅整流器:硅整流器使用歷史長,技術(shù)成熟,目前是整流器主流產(chǎn)品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電,不是純直流。為了比較脈動成份的多少,一般用紋波系數(shù)來表示,其數(shù)值越小,交流成份越少,越接近純直流。各種整流電路的波動系數(shù)不同。其由大到小的次序?yàn)椋喝喟氩ㄕ鳌⑷嗳蚴秸骰驇胶怆娍蛊鞯牧嚯p反星形整流。可控硅利用改變可控硅管導(dǎo)通角來調(diào)整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器,可控硅管輸出的是間斷脈沖波,其紋波系數(shù)的受導(dǎo)通角控制,輸出紋波系數(shù)大于普通硅整流電路。
2、開關(guān)電源
開關(guān)電源兼有硅整流器的波形平滑性優(yōu)點(diǎn)及可控硅整流器的調(diào)壓方便的優(yōu)點(diǎn),電流效率高體積小,數(shù)千安培至上萬安培的大功率開關(guān)電源已進(jìn)入生產(chǎn)實(shí)用階段。開關(guān)電源其頻率已達(dá)音頻,通過濾波實(shí)現(xiàn)低紋波輸出更為簡便易行。而且穩(wěn)流、穩(wěn)壓等功能更易實(shí)現(xiàn)。因此,開關(guān)電源是今后發(fā)展的方向。
3、脈沖電源設(shè)備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機(jī)等進(jìn)行控制,因此,除實(shí)現(xiàn)脈沖輸出之外,一般具備多種控制功能。(1)自動穩(wěn)流穩(wěn)壓。傳統(tǒng)硅整流器電流或電壓無法自動穩(wěn)定,隨電網(wǎng)電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調(diào)節(jié)功能,脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調(diào)節(jié)功能一般具有二種模式:一,恒電流限壓模式。二,恒電壓限流模式。(2) 多段式運(yùn)行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時,往往需要進(jìn)行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。具有多段式運(yùn)行模式的脈沖電源則只需提前設(shè)定,生產(chǎn)時可自動按順序進(jìn)行自動調(diào)節(jié)。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的,每一段時間可在0~255秒內(nèi)調(diào)節(jié)設(shè)定。(3)雙向脈沖功能。正負(fù)脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨(dú)立調(diào)節(jié),使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝,可獲得不同物理性能的鍍層。(4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時,由同一臺電源疊加輸出一純直流成分,更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
4、電鍍電源對電鍍工藝的影響
直流電源波形對電鍍質(zhì)量有突出的影響 各類電鍍工藝中,鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源,否則光亮范圍窄,鍍層易發(fā)花、發(fā)灰。在使用高效鍍硬鉻添加劑時,產(chǎn)生微裂紋鉻層,輸出紋波過大時,裂紋不細(xì)密且分布不均勻,達(dá)不到要求的裂紋數(shù)。
光亮鍍銅都有一個規(guī)律:從赫爾槽試片上看,陰極電流密度越大的地方,鍍層光亮整平性越好;電流密度越低,光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍,同時降低高流密度區(qū)光亮度,光亮均勻好。在實(shí)踐中,采用同樣的配方、工藝條件,使用相同的光亮劑,得到的光亮整平性與光亮范圍,卻可能出現(xiàn)較大差異,這與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。
光亮鍍鎳對整流輸出紋波系數(shù)要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高,但也確實(shí)需要采用普通低紋波輸出直流電源,才能確保光亮鍍鎳層質(zhì)量,且能保證后續(xù)套鉻的質(zhì)量。
硫酸鹽光亮酸性鍍錫本身就是不易鍍好的鍍種,其原因是大生產(chǎn)中易引入雜質(zhì)且不好處理(包括四價錫離子)、允許溫度范圍窄,目前光亮劑多數(shù)不理想,該工藝也要求采用低紋波系數(shù)直流電源,否則會出現(xiàn)與光亮酸性鍍銅相類似的故障。
鍍液溫升問題:紋波系數(shù)大的直流電源及脈沖電源往往會加快溫升。紋波系數(shù)越大,其諧波分量也越大,能產(chǎn)生大量歐姆熱,加快了鍍液溫升,采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。





