一些以硫酸為基除灰的商品化除灰添加劑，大多添加一種或多種添加劑，如氧化劑等。

1.溶液的溫度與電壓的關系

在額定的范圍內溶液的溫度越低，所需的電壓應越高，因為溶液溫度較低時氧化膜生成速度較緩慢，膜層較為致密，為獲得一定厚度的氧化膜，陽極氧化過程需升高電壓。當溶液的溫度較高時，氧化膜的溶解速度加塊，且生成的氧化膜是疏松的，此時降低電壓能適當改善氧化膜的質量。

2.陽極氧化溶液溫度與時間的關系  

溶液的溫度越低，所需的陽極氧化時間應越長。因為溶液溫度較低時氧化膜的生成速度緩慢。溶液的溫度升高時則氧化膜的生成速度加快。此時要縮短陽極氧化時間，否則由于氧化膜的外層電阻加大而導致膜層溶解，出現工件尺寸的改變、表面粗糙掉膜的現象。

以上措施只是在既無降溫設備，又無加溫裝置的條件下采取的應急措施。

二、染黑色溶液的配方與配制過程
1.配方及工藝條件

酸性毛元 

ATT 20～30g/L

酸性湖藍

 2～3g/L

溫度 

50～70℃

時間  

10～15min

PH值

3～3.5(或4.5～5.5)

2.配制方法

首先煮沸溶液，促使染料溶解完全，保證無疙瘩。待溶液冷卻后用濾紙過濾，濾去不溶物微粒及液面上漂浮的油狀物質。后測量pH值，用冷醋酸或氨水調整至工藝要求。

亮度等級
目測法，將拋光后零件 表面的光亮度分為5級：
1級：表面有白色氧化膜，無光亮度；
2級：略有光亮，看不清輪廓；
3級：光亮度較好，能看出輪廓；
4級：表面光亮 ，較清晰地看出輪廓 (相當于電化學拋光的表面質量)；
5級：鏡面般光亮。
注意事項
研磨操作中用砂紙或砂帶進行的研磨基本上屬于磨光切割操作，在鋼板表面留下很細的紋路。
在用氧化鋁作為磨料時曾遇到過麻煩，其部分原因是壓力問題。
設備的任何研磨部件，如：砂帶和磨輪等，使用前絕不能用于其它非不銹鋼材料。因為這樣會污染不銹鋼表面。
為了保證表面加工的一致性，新砂輪或砂帶應先在成分相同的廢料上試用，以便同樣品進行比較。

一、檢修與維護

   在整流器使用過程中，用戶根據機器工作環境，定期進行清掃，檢查。按如下步驟：

 A、打開機箱前，須斷開外接電源30分鐘后進行。

 B、打開機箱后，清掃各部分的塵埃，可用干布或毛刷，也可用壓縮空氣吹拭，但注意氣壓不可過高，以免損壞元器件。

 C、檢查電源是否正常檢查空氣開關分斷是否可靠。

 D、檢查風扇工作是否異常，有無雜聲。

 E、檢查輸出銅排有無氧化現象，要及時進行清理。

 F、檢查螺絲，螺帽有無松動等。

 G、水冷式開關電源，如有發現機器有水流出，應檢查水路中是否漏水，應擰緊卡簧。根據所使用的水質狀況，定期進行清洗。

二、 問題與對策

在電源的使用過程中，如果出現故障，請按以下方式進行檢測。由于安裝或操作不當造成的簡單故障用戶可以自己排除這些故障；屬電源本身質量問題仔細檢查后請與本廠聯系，不建議用戶自己修理電源。

 水冷高頻開關電源在長期不使用的應把水箱的水吹干，以防止下次在使用時堵塞。
為了提高電鍍硬鉻產品的質量和合格率，使產品的性能達到穩定性和均勻性。特制定如下工藝流程和要求：

一）、硬鉻工藝流程：
機械預處理→預除油→上掛具→安裝屏蔽物→除油→水洗→除銹→水洗→陽極腐蝕→鍍硬鉻→水洗→卸屏蔽物和掛具
1、 機械預處理：
機械精加工：后一道磨痕要細，是它很容易拋光掉（不然磨痕會在鍍鉻時引起麻點和氣痕）。
2、 預除油：
三氯乙烯或過氯乙烯除油。
3、 上掛具：
選擇或制造適合的掛具安裝。
4、 安裝屏蔽物：
安裝輔助陰極和輔助陽極、在不要鍍鉻的部位涂漆和蠟或包裹塑料薄膜。
5、 除油：
用專用除蠟水除油。
6、 水洗：
水洗需徹底：零件潤濕需均勻。
7、 除銹：
用15%-20%的稀硫酸溶液除銹。
8、 陽極腐蝕：
陽極腐蝕工藝：

鉻酐120-350 g/l，

硫酸：10 g/l，

陰極：與鍍鉻陽極同，

溫度：與鍍鉻溫度相同，

電流：30-50A//dm2，

時間：視基體而定。
9、 鍍鉻：
給電前預熱：使零件溫度接近或等于鍍液溫度。
給電方式：鑄鐵件鍍鉻先用沖擊電流電鍍，然后再恢復到正常電流密度；合金鋼件鍍鉻采用階梯式給電；鉻上鍍鉻先進行陽極浸蝕然后階梯式給電。

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電壓和陽極電流密度的影響
鋁制件通電氧化時，開始時很快在鋁制件表面生成一層薄而致密的氧化膜；隨之電阻增加電壓急劇升高，陽極電流密度逐漸減小。電壓繼續升高至一定值時，氧化膜因受電解液的溶解作用在較薄弱部位開始被電擊穿，促使電流通過，氧化過程繼續進行。
鋼筆-陽極氧化能夠帶來豐富的色彩

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雜質不利于陽極表面合金中含銅、硅等元素時，隨著氧化過程的進行，同樣由于在電解液中的陽極溶解作用，使合金元素Cu2+, Si2+不斷集聚。當Cu2+含量達0.02g/L時，氧化膜上會出現暗色條紋或黑色斑點。
電解液中可能存在的雜質是Cl-、F-, N03-和Al3+, Cu2+、Fe2+等離子。當Cl-,F-、N03-等陰離子雜質含量高時，氧化膜的孔隙率大大增加，氧化膜表面變得粗糙和疏松。
這些雜質在電解液中的允許含量為Cl- <0.05g/L, F- < 0.01 g/L。當超過這極限值，制品表面會發生穿孔而報廢。這些陰離子雜質來自配制電解液和清洗工序中的水源，因此必須嚴格控制水質。

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電解液混濁度的負面影響
陽極氧化時，電解液的混濁度對氧化膜表面光亮度影響極大。
通常，硫酸氧化膜是透明的，它的主要成分是Al2O3。多孔狀的氧化膜具有極大的吸附性能，利用這一特點將鋁和鋁合金表面進行各種色彩圖案花紋的裝飾。
若在電解液中含有各種不透明的固態混濁物，也被吸附填充到膜孔中去，會使氧化膜透明度下降，膜層的反光率受到阻擋，從而影響氧化膜的光亮度。
混濁物來源于鋁制件前處理不良和清洗水質不凈，或由于陰陽極反應劇烈與溶液的對流作用使雜質不易沉淀于缸底，被分散懸浮在電解液中，電解液透明度較差，甚至不透明并帶有一定的色澤。因此，對那些外觀要求較高的鋁制品，在氧化過程中，必須對電解液進行連續過濾。

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