為獲得良好的拋光效果，電流密度和電壓是緊密相關的。通常,電壓升高電流密度隨之增大，但這一現象只會繼續到一個臨界點。一旦達到這一點，電流密度將急速下降，電壓仍相應增高，超過這一點，電壓和電流密度又穩步增長。電拋光只有在電流密度比臨界點高時才會發生，低于這一點則出現腐蝕。通常電拋光使用直流電，在5.5一55.SA/dm2產生。
電地光對金屬的溶解極少，從奧拋光后的表面猜飾情況及拋光后的表面精飾處理來看，拋光厚度通常在2.5~65μm之間。深劃痕、沖壓記號及金屬中的非金屬夾雜物往往比電拋光失去的厚度深，雜亂的顆粒線和深深的劃痕(由粗研磨所致)，在其后的精加工中不能被去除。而電拋光可將它們去除，這些線和刻痕初是肉眼看不見的。電拋光是一項較快的操作，通常在2~12分鐘內完成。但如果從粗糙表面開始或必須去除較大量的金屬(如控制尺寸或去毛刺)，則將會需要更長的時間。

可控硅整流器

 高頻開關電源

●   效率

70%左右

90%

●   變壓器

有工頻變壓器，體積特別大，重量200kg

無工頻變壓器，有高頻變壓器，重量30kg

●   受控器件

可控SCR

IGBT

●   節能效率

差

節能明顯，與普通可控硅比可節省電15%-30%

●   帶載啟停

不允許

允許

●   控制電路

復雜，有同步要求，不易集成

簡單采用專用集成板電路，并做過防腐處理，完全密封

●   穩流精度

﹤5%

﹤1%

●   冷卻方式

水冷/風冷

風冷/水冷

●   穩壓精度

﹤5%

﹤1%

●   功率因素

0-0.9可變

全范圍可達0.9以上

●   工作頻率

50HZ

20KHZ

●   控制方式

移相觸發

PWM調制

●   輸出直流

半波

高密度直流方波

●   對電網干擾

大，且不易消除

很小，易消除

●   調節影響速度

一般

極快

●   體積及整機重量

體積大，整機重量重

體積小，整機重量輕。只有普通可控硅的1/5

●輸入電壓允許波動范圍

±10%

±15%

高頻開關電源安裝應注意什么？

1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來，國產多功能脈沖電源技術已趨于成熟，其中脈沖波形垂直程度，波形平穩程度、穩定性、抗干擾性等指標達到甚至超過了國外水平。
直流電源波形對電鍍質量有突出的影響，例如：高頻率定脈寬高頻穩壓/穩流脈沖電源電鍍時會產生特殊效應，這也是普通直流電源電鍍無法達到的效果，有些現象還不能用常規電化學理論來加以解釋。而直流波形對電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進行預測，只能通過大量的試驗來作相對比較，篩選出適宜的波形。

2 電鍍電源對電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發花、發灰，這一點已為不少人認同，但實踐中仍有因對其認識不足，往往由于紋波系數過大影響套鉻質量而束手無策的事時有發生。因此，電鍍電源的選擇就更顯重要。
對于經常使用反向電解的電鍍硬鉻生產，需要電源極性換向裝置。簡單的方法是使用手動換向開關。由于電流很大，開關通、斷時會形成較大的電火花，開關很容易損壞。將觸點浸入變壓器油中可以延長使用壽命。可控硅整流器實現換向比較容易，由于是無觸點換向，不會產生火花腐蝕。如電流變化不大時，可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻，覆蓋能力非常差，反復調整鍍液中硫酸與鉻酐的比值，仍無效。經現場查驗，采用1000A老式可控硅整流器，且平均電流僅200A左右，負荷率很低，顯然輸出紋波系數太大。換接一臺雙反星形輸出的硅整流器，鍍鉻即轉為正常。另有某廠鍍鉻上午生產正常，下午即出現裝飾鉻局部發灰，無法生產，懷疑鍍液故障，反復加硫酸、碳酸鋇調整一兩天，均無法解決。分析原因，鍍液成分不可能突變，懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測定各整流管電流，發現斷路2支，更換新管后，故障消除。
鍍微裂紋硬鉻，輸出紋波過大時，裂紋不細密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻，也可得到優良的鍍層。研究表明，當采用工藝條件為：頻率1000Hz，占空比通：斷=1/5，平均電流密度40A/dm2，30度溫度，獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下，光亮鍍銅都有一個規律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好;電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴展低電流密度區光亮范圍，始終是電鍍工作者不斷追求的目標。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現較大差異。究其原因，與所用直流電源輸出紋波系數大小有很大關系。據有關資料，二十多年前，國內在開發MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時就已證實。規律是：輸出紋波系數越小，鍍層光亮整平性越好，光亮電流密度范圍越寬。而且，紋波越小，光亮劑的用量也會越小。遺憾的是時至今日并未引起電鍍工藝技術人員的重視。

當前電拋光應用得還不太廣泛的原因是它的成本比較高。需要通過實驗進一步尋求新型的、廉價的和能對多種金屬進行電拋光的通用電解液，并且要繼續探討延長電解液使用壽命和使廢電解液再生的有效措施。

通電后，在被拋光金屬表面上形成一層極化膜，使金屬離子通過這層薄旗擴散。表面上的顯微及宏觀的凸點或粗糙處的高點及毛刺區的電流密度比表面其余部分大，并以較快的速度溶解，從而達到整平和去毛刺的目的。通過延長拋光時間、提高拋光溫度和電流密度可得到光亮的表面。
電拋光后的表面光潔度主要由拋光前的表面質量和光潔度決定。緞狀表面拋光成光亮表面是由時間、溫度、電流密度所控制。這三種因素的組合，會產生低反射或緞狀表面。采用延長時間、提高溫度或增加電流密度可獲得光亮表面。
陰極釋放氫，陽極釋入氧，對解釋表面鈍化及在一定程度上改善耐腐蝕性不夠全面。與電鍍不同，電拋光不存在氫脆。

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